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sangyungan

银虫 (小有名气)

[求助] Al与氮化硅接触势垒是多少,相关方面的知识

Al与氮化硅接触势垒是多少,相关方面的知识。

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qfw_68

版主 (文坛精英)

有尾巴的青蛙

【答案】应助回帖

改正:接触势垒差(能量)是0.49eV;接触电势差(电压)是0.49V;
没有困难创造困难也要上网。
3楼2011-12-23 21:49:16
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qfw_68

版主 (文坛精英)

有尾巴的青蛙

【答案】应助回帖

sangyungan(金币+2, 博学EPI+1): 有帮助 2011-12-24 19:35:49
二者理想的接触势垒为0.49V
仅供参考,请楼主自行验算:
α -Si3N4的亲和能(导带Ec到真空能级E0的能量差)为2.1eV
....However, experimental studies of Si3N4 showed that electron affinity in these films is as large as 2.1 eV....
https://apl.aip.org/resource/1/a ... _s1?isAuthorized=no
...α -氮化硅是一种宽禁带半导体材料,禁带宽度达5.3eV ....
https://www.chvacuum.com/application/film/121681.html
由以上两条可知,α -Si3N4的费米能级位于E0下方4.74eV(即:2.1+5.3/2  eV)
而铝的功函数为4.25eV(即铝的费米能级位于真空能级E0下方4.25eV)
根据上述结果,可知铝和α -Si3N4的费米能级相差0.49eV,则其接触势垒为0.49V
实际的氮化硅质量不同,其费米能级位置也略有差异,而铝和氮化硅的界面态影响也会有,所以实际的接触势垒可能与0.49V有偏差。
没有困难创造困难也要上网。
2楼2011-12-23 21:45:06
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