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蓝色冰点2807

木虫 (小有名气)

宰相

[求助] 如何在二氧化硅表面采用常压烧结制备氮化硅层的核壳结构

本人在此求助跪求高人指点迷津：
我曾试图使用碳热还原法以二氧化硅表面为反应体进行但其还原，结果败了~
靠氮化硅为粉制备的原理来包裹烧结也败了，粉是氮化硅的粉体可是烧不到二氧化硅表面啊~~
氮化硅微粉直接烧结，结果同上。。。。。。
受伤的我求各位大牛支招吧！
最好是不要引入其他元素~~烧结助剂还是斟酌一下子~~不过有闪光点的主意倒不妨直言不讳~~

补充说明：我不是要表面有塞隆陶瓷~~谢谢诸位了
小的有礼了~~呵呵
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1楼 2011-12-05 21:40:15
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hyde841008

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★
abooo(金币+2): 感谢慷慨相助！ 2011-12-06 15:52:07
引用回帖:
11楼: Originally posted by 蓝色冰点2807 at 2011-12-06 11:29:36:
能给个温度范围么？

我们当时在实验室做的时候一般在氮气气氛下1450℃就能得到氮化硅结合碳化硅的材料，而到了1550℃基本上就能得到强度很高的结晶板，我们是自制自用的。
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12楼2011-12-06 11:51:12
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hyde841008

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★
Missile521(金币+1): 鼓励回帖交流~ 2011-12-06 08:58:40
在氮气气氛下烧可以吗？我们做氮化硅结合碳化硅材料时，里面主要成分是SiC和SiO2，然后在氮气气氛下烧成，出来的物相就是氮化硅结合碳化硅的材质 。
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2楼2011-12-05 22:11:20
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蓝色冰点2807

木虫 (小有名气)

宰相
引用回帖:
2楼: Originally posted by hyde841008 at 2011-12-05 22:11:20:
在氮气气氛下烧可以吗？我们做氮化硅结合碳化硅材料时，里面主要成分是SiC和SiO2，然后在氮气气氛下烧成，出来的物相就是氮化硅结合碳化硅的材质 。

肯定是在但其气氛条件下烧的，常压烧结过程中就是这样的，只不过想把氮化硅粉烧成致密层，确实很难，我到现在也只是烧出粉体，没有办法把它烧致密，形成层。
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3楼2011-12-06 09:01:59
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heizai1215

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★
zhangquan8385(金币+1): 鼓励 2011-12-06 10:31:32
你的二氧化硅多大的尺寸，太小的话 碳热还原生成氮化硅 就消耗掉了啊。这个应该需要合适的二氧化硅尺寸，在就是你引入的碳源应该不合适。只能点到这里了。呵呵
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4楼2011-12-06 09:12:14
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