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求助11174217/A040106的摘要
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求助2011年国家自然科学基金的摘要 [ Last edited by zhenghaiw on 2011-12-5 at 12:48 ] |
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freecam
木虫 (小有名气)
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【答案】应助回帖
zhenghaiw(金币+64, 基金HEPI+1): 谢谢! 2011-12-08 19:43:34
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SiC基稀磁半导体的局域结构与自旋相关磁、输运特性 负责人:刘技文 参与人:刘技文, 安玉凯, 田华, 孙现科, 李响, 段玲申, 许丽丽, 吴一晨 金额:58万 申请时间:2011 学科代码:表面、薄膜和纳米结构的表征和分析(A040106) 项目批准号:11174217 申请单位:天津理工大学 研究类型:基础研究 关键词:稀磁半导体;SiC薄膜;磁性能;输运性能;XAFS; 稀磁半导体(DMS)兼有电荷和自旋两种特性, 在新一代的信息处理和存储、量子计算和通讯等方面具有重要的应用,成为自旋电子学领域的研究热点之一。本项目采用磁控溅射和脉冲激光沉积技术,制备3d过渡金属TM(TM=Mn、Co、Fe等)掺杂或与Al、N共掺杂的高质量SiC稀磁半导体薄膜。利用XRD、XPS、TEM、SQUID、PPMS测量SiC基稀磁半导体薄膜的微结构及磁、输运等性能,利用具有元素特征的同步辐射磁圆二色谱(XMCD)和X射线吸收精细结构谱(XAFS)等技术研究掺杂磁性离子的原子占位及分布情况、电子结构和电子自旋状态,阐明掺杂金属离子的局域结构和存在形式对系统的电子结构和磁相互作用的本质,本项目旨在探索DMS中自旋相关的磁、输运性质的物理机制方面做出创新性成果,也为新型器件的设计和制备打下材料基础。 |
2楼2011-12-08 19:19:44













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