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[求助]
求基金摘要： 批准号/代码 51135002/E050903
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批准号/代码 51135002/E050903 项目名 大口径KDP光学晶体元件逐点可控微纳潮解抛光新原理与新技术 负责人 郭东明 依托单位 大连理工大学 批准经费▼ 290 起始时间 201201-201612 所属基金 重点项目 |
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zhiwen79
木虫 (正式写手)
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- 专业: 机械工程
【答案】应助回帖
wwwhit(金币+10, 基金HEPI+1): xiexie 2011-11-30 20:17:08
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大口径KDP光学晶体元件逐点可控微纳潮解抛光新原理与新技术 负责人：郭东明 参与人：郭东明, 金洙吉, 盛贤君, 鲍永杰, 徐驰, 李伟思, 李哲, 鲍岩 金额：290万 申请时间：2011 学科代码：超精密加工工艺与装备(E050903) 项目批准号：51135002 申请单位：大连理工大学 研究类型：应用基础研究 关键词：KDP晶体；潮解；微纳抛光；逐点可控；面形精度 磷酸二氢钾（KDP）、磷酸二氘钾（DKDP）软脆晶体是目前唯一可用于惯性约束核聚变(ICF) 、强激光武器激光倍频和光电开关器件的优质非线性光学材料，但其各向异性、软脆、易潮解、对温度变化敏感等特点，以及超光滑、高面形精度和高激光损伤阈值要求，使其成为极难加工材料，特别是制成大口径光学晶体元件对超光滑无损伤高面形精度的苛刻要求，使其超精密加工面临重大挑战。本项目以大口径KDP晶体为对象，探索无磨料微纳潮解抛光新原理和基于超声雾化微水汽的KDP晶体微纳潮解洁净抛光新方法，揭示抛光介质与抛光工具的物理化学-机械协同作用和超光滑表面形成机理；建立材料微纳去除速率数学模型和逐点可控抛光驻留函数，研究其逐点可控抛光新技术；进行大口径KDP晶体原理样件加工试验与激光损伤阈值检测分析，提出表面光顺工艺策略，给出微纳潮解抛光工艺规范。研究成果对于加速我国惯性约束核聚变技术发展具有重要的现实意义和学术价值。 |
2楼2011-11-30 07:14:54
