3楼: Originally posted by 葵花点穴手h at 2011-11-28 16:17:11:
好像这个是要测出来后跟另一个峰图比较，看偏移量是多少，然后在计算出应力，但那个比较的图怎么来的呢？是需要找一个无应力薄膜测啊还是有标准，对这个设备不是很了解，请教啦

1楼: Originally posted by 葵花点穴手h at 2011-11-25 20:58:58:
如题，涂层的应力一般2-3um，基体是硬质合金或硅片，请问能不能测出涂层后的残余应力呢

2楼: Originally posted by monkeydkkk at 2011-11-25 23:13:43:
2-3um的话应该可以测，只要你在普通的sin（fai）平方法下情况下能出薄膜的峰就行，如果薄膜太薄的话就很难出现薄膜的峰了。最好选择高角度的峰，高角度峰不强的话，低角度的也行，薄膜一般线性会比较好！！

4楼: Originally posted by monkeydkkk at 2011-11-30 09:03:00:
不用测无应力薄膜，你需要偏转多个角度，然后按公式线性拟合，建议你看一看XRD测应力方面的书，推荐西交大出版的《材料中残余应力的X射线衍射分析和作用》张定铨，何家文著，或者找一些相关文献看看。