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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 金属 » 表面处理 » 直流磁控溅射镀膜总是被氧化
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jeffwell

铜虫 (小有名气)

[求助] 直流磁控溅射镀膜总是被氧化

各位大侠！本人做磁控溅射镀膜已经四五个月时间，一直坚持不懈努力着，但是每次镀出来的钛膜都是黄色的，用XRD检测发现是一氧化钛，现在离毕业时间不远了，但是自己一点成果都没有，论文都无从谈起，想请大家帮忙！不甚感激！另PS我试验中的参数
    基底：单晶硅（100）（纯度99.9%）
    背景真空度：6-8E-5pa
    Ar流量：20sccm
    工作压强：0.5pa
    溅射功率：100、150、200、250w
    我的基底在实验之前分别丙酮，无水乙醇，去离子水分别超声波清洗20min，最后用吹风机吹干！
    我现在真是不知道自己哪出了问题，研究了很长时间了，希望有经验的大侠给我点建议，我都在崩溃的边缘了，在这么下去毕业无止境了都。跪求！
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zhangxaut

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1楼 2011-10-09 09:50:23
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zhangxaut

铜虫 (初入文坛)
送鲜花一朵
设备漏气，和我以前的问题一样，我做Cr系列，也遇到过同样的问题，明明没有氧，XRD出来居然有O含量，如果是漏气，氧含量应该不大，此时你可以忽略氧的影响，在论文中注明由空气进入炉腔即可，很多论文都是这样解释的
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35楼2012-02-15 15:13:13
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wtony

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★
aishan(金币+1): 感谢交流 2011-10-09 15:34:59
我觉得是不是Ar气体不纯，你在抽真空时有没有顺便把气瓶到腔室那段气路抽一下。预溅射时间适当延长点吧。祝福你早日成功。
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好好努力才是王道啊～
2楼2011-10-09 14:21:12
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jeffwell

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by wtony at 2011-10-09 14:21:12:
我觉得是不是Ar气体不纯，你在抽真空时有没有顺便把气瓶到腔室那段气路抽一下。预溅射时间适当延长点吧。祝福你早日成功。

您好！谢谢您的鼓励！Ar瓶上显示是高纯Ae（99.999%）我曾经抽过一次，抽到E-3次方 因为是塑料管，所以只能抽到那个程度了，还有预溅射 我有时候都预溅射一个小时，结果还是被氧化。一直不知道问题在哪
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jeffwell
3楼2011-10-09 15:04:30
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kissyliu

铜虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★
aishan(金币+1): 感谢发资源帖 2011-10-13 10:50:16
这个应该和氩气纯度关系没那么大，个人觉得可能两方面：制作方面，氩气通入时间通入保持时间长一点再起辉，工作压强可以提高一点到1.5pa，溅射时间短一点，一个小时太长了，20分钟就差不多了！ 测试方面，XRD的狭缝换小一点，时间短一点，有时候X射线也可能氧化样品，可以增加其他测试手段比如拉曼光谱，电镜能谱等！另外，你的膜厚大约多少？
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4楼2011-10-11 09:28:34
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