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金属面表面部分生长陶瓷薄层
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rivshine
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[交流]
金属面表面部分生长陶瓷薄层
在铝表面局部生长一层三氧化二铝陶瓷薄层(75微米左右),面积大约为3平方毫米,使用哪种工艺和方法比较好呢?
[
Last edited by rivshine on 2011-8-21 at 15:12
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rivshine(金币+1): 谢谢参与 2011-08-27 23:02:03
rivshine(金币+9): 这么长时间只有你一个人回复,谢谢! 2011-09-08 09:05:49
PVD 应该可以吧
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2楼
2011-08-26 12:14:23
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引用回帖:
2楼
:
Originally posted by
jinxue57
at 2011-08-26 12:14:23:
PVD 应该可以吧
局部生长,这个有经验吗?
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3楼
2011-08-27 22:59:41
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jinxue57
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3楼
:
Originally posted by
rivshine
at 2011-08-27 22:59:41:
局部生长,这个有经验吗?
咕~~(╯﹏╰) 没做过, 不过 CVD PVD 通常不都是 只能做小范围的吗?
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2011-09-09 08:07:22
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helena-yi: 谢谢回帖应助。 2011-09-14 09:24:46
helena-yi(金币-5): 但是,广告请发付费广告版 2011-09-14 09:26:18
flyingsnow4:编辑内容 2011-09-20 10:46
flyingsnow4:编辑内容 2011-09-20 10:46
氧化铝用磁控溅射做质量是比较好的,我实验室的磁控溅射、电子束蒸镀都可以做这个。先在基片上涂光刻胶,曝光后将不要镀膜的区域遮起来(曝光可以在我实验室做),再镀Al2O3膜,最好洗掉光刻胶就可以得到你说的“局部生长三氧化二铝”了。
[
Last edited by flyingsnow4 on 2011-9-20 at 10:46
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2011-09-14 00:13:21
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flyingsnow4(金币+1): 感谢回帖交流,期待你们进一步交流哦 2011-09-24 21:47:16
应该是可以的,我做微弧氧化的,只是好像膜层厚度难达到那么厚
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2011-09-24 09:38:01
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flyingsnow4(金币+1): 感谢回帖交流,期待你们进一步交流哦 2011-09-26 19:25:22
现在表面进行微弧氧化,让后再用溶胶凝胶法在其表面镀膜,厚度应该可以达到要求
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7楼
2011-09-25 09:55:15
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