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金属面表面部分生长陶瓷薄层
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在铝表面局部生长一层三氧化二铝陶瓷薄层（75微米左右），面积大约为3平方毫米，使用哪种工艺和方法比较好呢？ [ Last edited by rivshine on 2011-8-21 at 15:12 ] |
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rivshine(金币+1): 谢谢参与 2011-08-27 23:02:03
rivshine(金币+9): 这么长时间只有你一个人回复，谢谢！ 2011-09-08 09:05:49
rivshine(金币+9): 这么长时间只有你一个人回复，谢谢！ 2011-09-08 09:05:49
PVD 应该可以吧  |
2楼2011-08-26 12:14:23
3楼2011-08-27 22:59:41
4楼2011-09-09 08:07:22
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小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖
helena-yi: 谢谢回帖应助。 2011-09-14 09:24:46
helena-yi(金币-5): 但是，广告请发付费广告版 2011-09-14 09:26:18
flyingsnow4:编辑内容 2011-09-20 10:46
flyingsnow4:编辑内容 2011-09-20 10:46
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖
helena-yi: 谢谢回帖应助。 2011-09-14 09:24:46
helena-yi(金币-5): 但是，广告请发付费广告版 2011-09-14 09:26:18
flyingsnow4:编辑内容 2011-09-20 10:46
flyingsnow4:编辑内容 2011-09-20 10:46
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氧化铝用磁控溅射做质量是比较好的，我实验室的磁控溅射、电子束蒸镀都可以做这个。先在基片上涂光刻胶，曝光后将不要镀膜的区域遮起来（曝光可以在我实验室做），再镀Al2O3膜，最好洗掉光刻胶就可以得到你说的“局部生长三氧化二铝”了。 [ Last edited by flyingsnow4 on 2011-9-20 at 10:46 ] |
5楼2011-09-14 00:13:21
6楼2011-09-24 09:38:01
7楼2011-09-25 09:55:15
