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[求助]
晶面能计算
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求助各位高手： 本人正在用CASTEP做氯氧铋（BiOCl）的晶面计算，实验中BiOCl的{001}晶面族较易暴露，而我计算（001）表面能时，其值接近4 Jm-2。具体参数设置为：对于（1×1）slab，slab切割深度为2，共10个原子层，真空层为15 Å，计算中所有原子都未固定，截断能为380 eV，k-point为4×4×1，能量收敛精度为10-5 eV/ atom，SCF tolerance为10-6 eV/atom，计算结果为3.564 Jm-2；而对（2×2）slab，截断能为340 eV，k-point为2×2×1，其余设置同上，计算结果为3.869 Jm-2，已检查计算结果都达到了收敛。 后来又考虑到可能{001}晶面族中不是暴露的（001）面，而是其它截断面，如（002）、（003）（004）等，于是我又计算了这些晶面，slab的切割深度为1，结果发现（003）晶面的表面能为0.016 Jm-2，而正好这个晶面上的氯原子是以范德华力插入Bi2O3的层状结构中的。这值又把我给吓到了，难道是说（003）晶面才是{001}面族的暴露面？ 各位大侠赐教啊！！！ 还有，鉴于实验中{001}面族易于制备，反应体系是弱酸性，于是我又对（001）面（表面是5个氧原子）进行了加氢计算，计算结果确实较为乐观，表面能为1.261 Jm-2，但这个值仍比BiOCl的其它面的表面能高，仍不足以说明其暴露倾向比其它表面大。 我都纠结快两个月了，再次恭请各位大侠赐教啊！！！赐教啊！！！ 附件中是BiOCl的三维结构。 |
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jennyge
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