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上官七七

金虫 (小有名气)


[交流] 求助MD中几个概念

用Material Explorer进行MD模拟:问题1、软件中的Relax与Run是不是两个原理完全不同的过程,为什么我在论坛上看到有人说实际上如果run的时间足够长,可以将run的前面若干步看成relax;2、采用软件自带的MEAM势,设定NVT系综,先对体相进行弛豫,结果都还正常,温度、压力、U、H等都很快稳定下来,弛豫结束后,切出(110)面,将<110>方向晶格常数拉长,并固定底层原子,再进行NVT弛豫,可温度始终不能稳定在我设定的温度,而趋于0,这是什么原因呢;3、如果不进行弛豫,直接设定温度、压力 采用NVT系综对(110)面run   过程中温度、压力等都能稳定在设定温度  但hamilton曲线呈倾斜状态,run过程是不是也是所有的物理量都要在稳定值附近波动才正确呢
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levelsong

新虫 (初入文坛)


★ ★ ★ ★ ★
上官七七(金币+1):谢谢参与
ghcacj(金币+4): 谢谢 2011-07-18 19:30:27
上官七七(金币+2): 谢谢!祝天天向上 2011-07-18 20:37:10
relax和run都是能量最小化的过程,但是relax是通过直接改变体系构象,例如原子坐标来使能量最低,这样使计算更快,但这种构象是否符合物理实际则不一定;run通过不断计算原子间相互作用来改变其坐标,从而体系能量最低,虽然达到稳定所需的时间更长,但相对来说更加符合物理实际。所以说二者原理完全不同,run的步数很长也不需要relax过程,也可以relax一定步数后再进行run过程。至于二者具体原理,还有待高人解释。
2楼2011-07-18 15:59:12
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q1036210267

木虫 (正式写手)



上官七七(金币+1):谢谢参与
路过,参观。学习
3楼2011-07-27 09:54:51
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