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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 综合其他 » ITO的表面处理
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50mn

铜虫 (初入文坛)

[求助] ITO的表面处理

大家好，我想求助ITO电极表面的巯基硅烷化处理方法。如何使ITO电极表面出现羟基官能团和硅烷化试剂反应。
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1楼 2011-07-08 16:21:46
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Haloc

铜虫 (初入文坛)
引用回帖:
8楼: Originally posted by chengji1123 at 2011-10-25 20:39:02
plasma 打一下应该会有羟基

硅烷化之后再用等离子清洗机处理会有影响吗？

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18楼2016-04-12 19:52:11
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whgcdxkj

铁虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★
wandaohzl(金币+1): 鼓励交流 2011-07-11 10:12:54
我看过的是用稀硫酸超声一小时左右，ITO表面会有羟基生成。再用高纯水洗涤，再放入巯基硅烷中反应。
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天道酬勤；机会总是青睐有准备的人
4楼2011-07-11 09:28:02
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宋晴川

银虫 (正式写手)
引用回帖:
Originally posted by whgcdxkj at 2011-07-11 09:28:02:
我看过的是用稀硫酸超声一小时左右，ITO表面会有羟基生成。再用高纯水洗涤，再放入巯基硅烷中反应。

有相关文献吗？
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5楼2011-07-11 10:28:54
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pwhboy

铁杆木虫 (正式写手)

Just-smile

【答案】应助回帖

★ ★
金光闪闪2010(金币+2): 2011-10-26 12:33:57
正常的清洗步骤就不用说了吧，最后要用RCA法活化一下^
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微笑面对生活……
6楼2011-07-12 15:03:05
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