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[交流] 工作速度不降 待机功耗为零——NEC与东北大学在数据检索电路上采用垂直磁壁元件

工作速度不降 待机功耗为零——NEC与东北大学在数据检索电路上采用垂直磁壁元件

2011/06/15 00:00






  NEC和东北大学宣布,通过在微处理器内用于存储器地址变换等的数据检索电路(CAM:content addressable memory)上嵌入名为“垂直磁壁元件”的非易失性元件,在不降低工作速度的情况下,成功将待机功耗降到了零。其详细内容将在6月15日开始的“Symposium on VLSI Circuits”上发表(论文序号:28-3)。

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[/td][td][/td][/tr][tr][td]垂直磁壁元件的写入操作(点击放大)[/td][td]垂直磁壁元件的读取操作(点击放大)[/td][/tr][/table]
  垂直磁壁元件是通过在磁性体层(自由层)两端配置强力磁铁(引脚层),把自由层两端的磁化方向互为反向固定,从而在自由层中途形成磁化方向陡变的“磁壁”的元件。当写入电流沿自由层的通入时,因自旋的相互作用,磁壁会相应于电流的方向而左右移动。因而,自由层中央部分的磁化方向能够在“0”、“1”之间切换。

  相应于这种磁化方向而产生的磁场,会作为磁化储存在另行设置的MTJ(磁性隧道结)元件的自由层上。读取是通过判别流经MTJ元件的隧道电流的大小来进行的。这样,就分离了写入和读取的电流通道,可实现3端子型元件是垂直磁壁元件的特征。

[table=460][tr][td][/td][td][/td][/tr][tr][td]实现3端子元件(点击放大)[/td][td]由3端子元件使高速化及削减晶体管数量成为可能(点击放大)[/td][/tr][/table]
  据介绍,3端子元件与MTJ等2端子元件相比,电路设计的自由度高,易于设计高速电路。此次,通过将两个垂直磁壁元件串联连接,一并采用于供写入电流流过的电路,在非易失的情况下实现了检索时间缩短至5ns(相当于200MHz频率),与此前的CAM相当的高速化。而且,通过使用3端子元件,写入用晶体管可以通用化,因而把原本2个单元需要8个的晶体管数量削减到了3个。因此,电路面积缩小到了原来的1/2。

  试制的非易失性CAM是16Kbit(128word×128bit)构造,面积为330μm×460μm,工作时的功耗为9.4mW。试制采用了90nm的CMOS工艺和140nm宽的垂直磁壁元件工艺。通过在此次开发的CAM上组合非易失性混载存储器和非易失性触发器等元件,可以实现待机功耗为零的系统LSI。

  此次的研究是在日本学术振兴会最尖端研究开发支援项目“省能源自旋电子学逻辑集成电路的研究开发”下开展的。该项目计划于2013年结束,完成之前预定将试制待机功耗为零的系统LSI。NEC希望在项目结束的3~4年后投入实用。最初的目标是应用于面向社会基础设施的小规模MCU等,而不是面向消费产品的大规模微处理器。

[table=460][tr][td][/td][td][/td][/tr][tr][td]试制的16Kbit非易失性CAM (点击放大)[/td][td]28-2号论文发表的2Kbit非易失性TCAM (点击放大)[/td][/tr][/table]
  另外,作为该项目的其他研究成果,东北大学与NEC还在使用自旋注入磁化反转型MTJ元件,开发2Kbit的通用数据检索电路(TCAM:ternary content addressable memory)(论文序号:28-2)。该电路除微处理器之外,还可以应用于数据库等全部信息检索用途。其单元结构为6T-2MTJ型,电路面积为174μm×226μm,使用90nm的CMOS工艺和100nm宽的MTJ工艺制造。(记者:木村 雅秀)


■日文原文
【VLSI】動作速度を落とさずに待機時電力をゼロへ、NECと東北大学がデータ検索回路に垂直磁壁素子を導入

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