【答案】应助回帖

蓝精灵

11楼2011-05-11 08:13:43

sheldon102

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Originally posted by mlanqiang at 2011-05-11 08:13:43:
煅烧是可以的，在600度就行

煅烧多长时间呢？

12楼2011-05-11 09:23:00

sheldon102

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Originally posted by yoyosnda at 2011-05-10 19:27:05:
去羟基就煅烧吧，550度就可以
增加羟基就用稀碱浸泡一天就好。

碱液会不会使二氧化硅微球溶解啊？

13楼2011-05-11 09:23:47

匿名

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14楼2011-05-11 11:20:16

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翱翔天空

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【答案】应助回帖

huangzx1314: 鼓励常来无机版交流～～ 2011-05-12 07:42:17

其实胶体氧化硅表面含有的羟基数已经足够多了（4.6个/平方纳米，和测量方法还有一定的关系），你若是改性使得表面羟基数增加，分散性、稳定性不见得好

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15楼2011-05-12 00:22:34

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Originally posted by 翱翔天空 at 2011-05-12 00:22:34:
其实胶体氧化硅表面含有的羟基数已经足够多了（4.6个/平方纳米，和测量方法还有一定的关系），你若是改性使得表面羟基数增加，分散性、稳定性不见得好

请教你的数据来源和测量方法？
很感谢你深夜的回复。

16楼2011-05-12 08:59:58

sheldon102

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数据哪里来的啊？

17楼2011-05-12 22:56:08

fyanchem

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【答案】应助回帖

★
huangzx1314(金币+1): 欢迎经常参与无机版的讨论~~ 2011-05-13 10:22:28

高温煅烧可以减少表面硅羟基；用1M HNO3洗可以增加表面的硅羟基，但时间长会将二氧化硅溶解。

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18楼2011-05-13 09:20:34

meteorabob

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985319楼: Originally posted by sheldon102 at 2011-05-12 08:59:58
请教你的数据来源和测量方法？
很感谢你深夜的回复。...

有一篇文献提到二氧化硅表面羟基密度的，Langmuir 1987, 3, 316-318
Concentration of Hydroxyl Groups on the Surface of Amorphous Silicas+,*
L. T. Zhuravlev

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19楼2012-11-05 18:42:09

zhouwenrui

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要去掉 400度马弗炉里煅烧要增加用浓硫酸双氧水21:9 100度浸泡

20楼2012-12-12 16:05:18