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求助：Stober法合成二氧化硅的方法
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| 哪位知道如何用Stober法合成粒径为100nm-200nm的二氧化硅颗粒？如何控制颗粒大小及其均匀性？如果有参考文献，请一并发到我的邮箱：whjqzh@sina.com，十分感谢！ |
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whjqzh(金币+2):谢谢啦，太有用了！
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控制水，氨，溶剂及正硅酸乙酯的比例。 参考文献：Contralled growth of monodisperse silica spheres in the micron size range, Werner Stober, Arthur Fink, Journal of Colloid and Interface Science, 1968, 26, 62-69 下载地址：http://www.sendspace.com/file/zc5jmq [ Last edited by vic321try on 2006-9-12 at 12:12 ] |
2楼2006-09-12 11:39:40
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cad_0
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killl(金币+1):多谢参与应助
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二氧化硅胶体晶体及其为模板的多孔材料 SiO2 Colloidal Crystals and Macroporous Materials Using Them as Template 丛海林 曹维孝 摘 要：用Stober法合成了粒径在35～750 nm范围内的单分散的SiO2粒子,考察了投料比对粒径的影响.研究了所制备的SiO2胶体晶体的结构和反射光谱.利用两种不同粒径的SiO2粒子作为模板和模板填充物,分别制备了SiO2和重氮树脂的多孔材料. 关键词：二氧化硅;重氮树脂;胶体晶体;单分散颗粒;多孔材料 分类号：O648.1 文献标识码：A 文章编号：0251-0790(2005)03-0535-05 基金项目：国家自然科学基金(批准号: 20274002)资助. 作者简介：曹维孝(1935年出生),男,教授,博士生导师,从事高分子合成化学研究.E-mail: wxcao@pku.edu.cn 作者单位：丛海林（北京大学化学与分子工程学院,北京100871） 曹维孝（北京大学化学与分子工程学院,北京100871） 参考文献： [1]Xia Y., Gates B., Yin Y. et al.. Adv. Mater.[J], 2000, 12: 693-713 [2]Schroden R. C., Daous M. A., Blanford C. F. et al.. Chem. Mater.[J], 2002, 14: 3305-3315 [3]Meng Q. B., Fu C. H., Einaga Y. et al.. Chem. Mater.[J], 2002, 14: 83-88 [4]Velev O. D., Lenhoff A. M.. Current Opinion in Colloid & Interface Sci.[J], 2000, 5: 56-63 [5]Vlasov Y. A., Bo X., Sturm J. C. et al.. Nature[J], 2001, 414: 289-293 [6]Blanco A., Chomski E., Grabtchak S. et al.. Nature[J], 2000, 405: 437-440 [7]WANG Ling-Ling(王玲玲), FANG Xiao-Long(方小龙), TANG Fang-Qiong(唐芳琼) et al.. Chinese J. Process Engineering(过程工程学报)[J], 2001, 1(2): 167-172 [8]CHEN Sheng-Li(陈胜利), DONG Peng(董鹏), YANG Guang-Hua(杨光华) et al.. J. Inorganic Materials(无机材料学报)[J], 1998, 13(3): 368-374 [9]CONG Hai-Lin(丛海林), CAO Wei-Xiao(曹维孝). Chem. J. Chinese Universities(高等学校化学学报)[J], 2003, 24(8): 1489-1491 [10]Cong H., Cao W.. Langmuir[J], 2003, 19: 8177-8181 [11]Zhao C., Chen J., Cao W.. Angew. Makromol. Chem.[J], 1998, 259: 77-82 [12]HAO Ling-Yun(郝凌云), ZHOU Yong(周勇), JIANG Wan-Quan(江万权) et al.. Chem. J. Chinese Universities(高等学校化学学报)[J], 2001, 22(11): 1945-1947 |
4楼2006-09-12 14:25:59
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