| 查看: 1266 | 回复: 3 | |||
| 当前主题已经存档。 | |||
| 【悬赏金币】回答本帖问题，作者fantree将赠送您 1 个金币 | |||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | |||
[求助]
P型半导体与N型半导体的光催化反应机理及区别
|
|||
|
本人研究的是p型半导体NiO光催化降解染料与n型半导体TiO_2光催化性能的比较，现在发现一点疑问，望专家来解决。（300W紫外灯）（染料为：B-RN）。 1.在未曝入氧气的条件下，TiO_2催化染料降解率不到40%，在曝入氧气的条件下，TiO_2催化催化降解率不到40%在60min内染料就可以降解完全。这个机理已经有了相应的解释。 2.而在同样的条件下，NiO的催化染料降解，不需要扑入氧，NiO就可以在40min内就可以完全降解染料。为什么？？ 如果能回答本问题，请你最好附一定的文献资料名称。 谢谢！ |
回复此楼» 收录本帖的淘帖专辑推荐
 N-P型半导体 |
» 猜你喜欢
论文终于录用啦！满足毕业条件了
已经有10人回复
-
2025年遐想
已经有4人回复
-
投稿Elsevier的杂志（返修），总是在选择OA和subscription界面被踢皮球
已经有8人回复
-
自然科学基金委宣布启动申请书“瘦身提质”行动
已经有4人回复
-
求个博导看看
已经有18人回复
3楼2006-09-26 19:42:33