[交流] 【求助】电镀Ni-P镀层，镀层光亮，但是电镜下镀层有缺陷，望高人指教！

Originally posted by Annbaby at 2011-04-07 19:08:16:
电镀时电压或电流有点大，镀层过程不太均匀，可能导致内层有缺陷~~一家之言，仅供楼主参考~~

Originally posted by baogg at 2011-04-08 00:21:25:
2幅图的放大比例不一样你咋个作比较啊？

Originally posted by 陈叶 at 2011-04-08 11:56:45:
电流有点大？我看文献上面都是这种电流密度啊。。。镀层过程不均匀，怎样才能均匀呢？加催化剂么？

Originally posted by Annbaby at 2011-04-08 13:15:29:
可能体系不完全一样，别人的条件也不一定就是最适合你的实验，可以适当降低一些电流~~~·建议楼主采用断开镀层法，减少每次镀层的时间，或许实验效果会好点~~[/ ...

Originally posted by 陈叶 at 2011-04-08 20:24:19:
电流变小，我有试过，1A/dm2的也不是很理想；现在我也正尝试在不同时间下电镀，再具体看效果，你说的断开镀层法是不是这个啊？

Originally posted by Annbaby at 2011-04-08 23:37:25:
嗯，差不多。当然也可以保证沉积的总时间一定的情况下，分多次时间段分开镀层，建议楼主尝试对比下，或许能得到更好的效果呢~~

420981楼: Originally posted by 陈叶 at 2011-04-07 18:48:59
电镀Ni-P镀层，镀层光亮，但是电镜下镀层有缺陷，望高人指教！还有电沉积时，得到第二张图有光亮小球，P含量为16wt%，希望高人分析分析。
两张图片工艺不同，第一张工艺为：NiSO4=200 g/l, NiCl2=30 g/l, H3PO4=30 ...