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yao-虫

铁虫 (小有名气)


[交流] 【求助】关于ICP,电感耦合等离子体发射光谱的使用

我是学生,现在要用到ICP测我们的产品的含量,但是我们的产品中有二氧化硅,不知道得用什么溶解才是最好的办法,希望懂得的朋友们帮帮忙。。。
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swordgang

禁虫 (职业作家)

本帖内容被屏蔽

2楼2011-03-05 15:35:40
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wxyailb

木虫 (小有名气)


二氧化硅可以试着用HF酸溶解……
3楼2011-03-05 17:31:55
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berain

木虫 (正式写手)


HF酸会把雾化器腐蚀,用王水吧
4楼2011-03-05 21:19:22
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yao-虫

铁虫 (小有名气)


引用回帖:
Originally posted by berain at 2011-03-05 21:19:22:
HF酸会把雾化器腐蚀,用王水吧

我试过了,王水不行,HF酸又太厉害了,没头绪啊
5楼2011-03-06 00:42:40
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yao-虫

铁虫 (小有名气)


引用回帖:
Originally posted by wxyailb at 2011-03-05 17:31:55:
二氧化硅可以试着用HF酸溶解……

HF酸危险性太大了,有其他办法么?
6楼2011-03-06 00:44:05
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wxyailb

木虫 (小有名气)



liang8887(金币+1): 谢谢参与! 2011-03-06 10:22:16
yao-虫(金币+1): 恩,我试试,谢咯 2011-03-06 19:39:51
chenfaqiang: 回帖置顶 2013-10-12 17:09:11
引用回帖:
Originally posted by yao-虫 at 2011-03-06 00:44:05:
HF酸危险性太大了,有其他办法么?

溶解了以后一般都会通过加热来吧酸挥发掉吧,HF酸应该很容易挥发的
7楼2011-03-06 09:10:20
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dfdzhangkai

新虫 (初入文坛)


yao-虫(金币+1): 2011-03-10 00:18:56
hf酸溶解 。ICP可以使用铂金锥-聚四氟的系统,测定没有问题
8楼2011-03-07 21:19:54
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深海之蓝zhb

银虫 (小有名气)



小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
可以考虑用XRF,用ICP测Si是不准的,用HF消解,会生成氟化硅是很容易挥发的,故这样是测不准Si  的含量的。
9楼2013-11-01 09:16:38
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