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关于处理载体的问题
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想向各位高手请教一下，为什么在二氧化硅表面负载B,P等氧化物会增加羟基呢？？等体积浸渍后在焙烧，不应该减少羟基吗？？ [ Last edited by nxl5096224 on 2007-6-1 at 21:48 ] |
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rabbit7708
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