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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 【请教】AFM制样的问题
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melyan

木虫 (正式写手)

[交流] 【请教】AFM制样的问题

Si底用过一次后，能重新用piranha清洗，还能重复使用么？
Si底用isopthalic acid&O3处理和piranha处理有什么不同？
另外HOPG底和mica底用后能清洗并重复使用么？？
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1楼2010-12-13 09:25:30
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melyan

木虫 (正式写手)
isopthalic acid&O3处理和piranha处理有什么不同呢
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4楼2010-12-13 11:57:14
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charley86577

至尊木虫 (职业作家)
★
melyan(金币+1):谢谢参与
假如好好清洗,应该是可以的.
但是我不建议这么做,呵呵

我一般都是用云母片做样品载体的, 用过了就直接丢了.
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2楼2010-12-13 09:37:19
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tlltll

金虫 (正式写手)
★
melyan(金币+1):谢谢参与
引用回帖:
Originally posted by melyan at 2010-12-13 09:25:30:
Si底用过一次后，能重新用piranha清洗，还能重复使用么？
Si底用isopthalic acid&O3处理和piranha处理有什么不同？
另外HOPG底和mica底用后能清洗并重复使用么？？

云母用后，如果你想循环使用，可以用透明胶粘掉表层继续用的
赞一下(2人) 回复此楼
3楼2010-12-13 09:40:41
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donkeypku

至尊木虫 (著名写手)
★
melyan(金币+1):谢谢参与
引用回帖:
Originally posted by melyan at 2010-12-13 09:25:30:
Si底用过一次后，能重新用piranha清洗，还能重复使用么？
Si底用isopthalic acid&O3处理和piranha处理有什么不同？
另外HOPG底和mica底用后能清洗并重复使用么？？

觉得洗得干净程度与你的样品有关，其实比较实惠的方式是用mica啊，你洗基底用的那些东西，比mica贵啊
赞一下(2人) 回复此楼
5楼2010-12-13 15:40:49
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