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【分享】产综研公开招标采购石墨烯膜量产用卷对卷装置
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产综研公开招标采购石墨烯膜量产用卷对卷装置 2010/12/02 00:00 打印 E-mail  图1：作为石墨烯膜量产方法而加紧开发的卷对卷装置的模式图（点击放大）  图2：将石墨烯膜从铜基材转印到PET膜上的构想图（点击放大） 日本产业技术综合研究所纳米管应用研究中心，2010年11月初以确立碳材料石墨烯膜量产方法为目的，公布了卷对卷装置的招标公告。投标所需的文件递交目前已经截止，预定12月3日接受投标书。该中心此次采购的卷对卷装置，是以微波等离子体CVD（化学蒸镀）法分解甲烷等碳化氢气体，并在位于其附近的金属表面形成石墨烯膜的装置。在等离子体CVD中嵌入卷取系统是其必要条件。 石墨烯膜是呈正六角形排列的碳原子规则形成的单层构造，为透明物质，并具有一定程度的导电率，因此期待将其用于液晶显示器（LCD）等的透明电极。目前液晶中的透明电极材料所使用的ITO（铟锡化合物）因稀有金属匮乏而存在供应不足的可能性，因此替代材料的开发日趋活跃。在这一背景下，对石墨烯膜期待日益提高。 产业技术综合研究所纳米管应用研究中心的纳米物质涂层小组采用微波等离子体CVD法，分解碳化氢类气体，并成功地在金属表面上形成了石墨烯膜。基材的金属试用了镍及铜等。长谷川雅考组长表示：“以铜为基材成功试制了A4尺寸的石墨烯膜。”CVD的时间为1分钟左右。溶解铜基材后即可出石墨烯膜。 目前日本国内外有多所大学及研究机构在开发形成石墨烯膜的方法。其中，纳米管应用研究中心采用的微波等离子体CVD法的特点是处理温度较低，只有大约400℃。由于这种批式方法不适于量产，因此该中心打算导入卷对卷装置以实现量产化。目前的计划是将铜基材制成卷状，在其表面上形成石墨烯膜（图1）。预定在2011年3月之前确定利用卷对卷装置量产石墨烯膜的日程。 之后的重要课题是如何将石墨烯膜从卷状的铜基材上剥离下来。作为一种构想，该中心正在摸索将铜基材上的石墨烯膜转印到PET（聚对苯二甲酸乙二酯）膜等树脂薄膜上的方法（图2）。長谷川雅考组长表示：“要使之得以实现，还须解决多项课题”。如果该方法得以实现，日本便极有望进入石墨烯膜开发竞争的前列。（特约撰稿人：丸山 正明） ■日文原文 産総研、グラフェン膜量産装置のロール·ツー·ロール装置の開発を加速 |
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