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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 【讨论】EUV光刻机价格暴涨至近亿美元（这才是货真价实的高端装备）
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nobeyondme

木虫 (正式写手)

[交流] 【讨论】EUV光刻机价格暴涨至近亿美元（这才是货真价实的高端装备） 已有3人参与

EUV光刻机价格暴涨至近亿美元

2010-11-22 　作者：EETimes 　来源: 半导体国际 我要评论(0)
核心提示：ASML公司的EUV光刻机型共取得了六份订单，而上公司初期生产的EUV机型（机型代号NXE:3100，为alpha机型的下一代产品,采用LPP：Laser-Produced Plasma光源）都已经被订购一空，这款机型定于今年年底正式交货。据报道，这款机型的售价高达9000万美元。据说国外某国进行所谓的自主研发，连人家2000年以前的pas产品还没有用明白，连抄都算不上。

多年以前，VLSI Research公司的总裁Risto Puhakka曾经预测称：“EUV光刻系统将乏人问津，其售价有可能提升到1.25亿美元的水平。”当时几乎所有的人都认为他是在满嘴跑火车，可是如今，越来越多的厂商开始停止采购这种系统用作生产。


ASML NXE:3100 EUV光刻机

2003年，EUV光刻系统当时的积极支持者Intel公司认为EUV光刻设备的目标定价应在2000万美元较为合适。目前各大半导体厂商普遍采用的是193nm沉浸式光刻系统（光波波长193nm,数据孔径值以ASML公司Twinscan NX1950i为例为1.35），而采用EUV光刻设备（波长13.5nm，数据孔径值以ASML公司ADT EUV Tool和Twinscan NXE3100为例均为0.25）的目的是待193nm沉浸式光刻系统不能满足产品生产要求时取而代之。


ASML公司的ADT(Alpha demo tool) EUV光刻机

不过，EUV光刻系统的推广普及日程多次延后，与此相对的是，系统的开发研制费用则成指数级增长，由此导致设备的制造成本已经完全失控。举例而言，ASML公司最早的EUV机型--alpha EUV光刻机（采用DPP：Discharge-Produced Plasma光源）的单价据报已经达到了6000万美元的水平，而IMEC和Sematach两家公司则是这种机型的首批两家用户。

尽管如此，EUV系统仍有一线生机。正像以前媒体所报道的那样，ASML公司的EUV光刻机型共取得了六份订单，而上公司初期生产的EUV机型（机型代号NXE:3100，为alpha机型的下一代产品,采用LPP：Laser-Produced Plasma光源）都已经被订购一空，这款机型定于今年年底正式交货。据报道，这款机型的售价高达9000万美元。

另外，据 Barclays Capital市调公司透露，除了初期的NXE:3000机型之外，荷兰ASML公司下一代EUV光刻机产品NXE:3300也取得了10份订单。有分析师分析，这款新机型的订购用户主要有Hynix，IMEC,Intel,三星,东芝以及台积电公司这几家。


[ Last edited by nobeyondme on 2010-11-22 at 08:25 ]
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1楼 2010-11-22 08:11:39
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niuniushang

新虫 (小有名气)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流

买看懂，一会说好，一会说乏人问津？
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2楼2010-11-27 10:15:54
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medodo

新虫 (初入文坛)
這麼大的設備
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3楼2010-11-27 11:22:34
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alexanderliu
4楼2013-05-29 09:00:56
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