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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 电化学 » 电化基础 » 【求助】请教金电极上铜欠电位沉积问题
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chemyl8868

金虫 (正式写手)

[交流] 【求助】请教金电极上铜欠电位沉积问题

为确定干净的金电极表面积，我做了欠电位沉积铜实验。
溶液：0.2M CuSO4/0.1M H2SO4；参比电极 Ag/AgCl
参数：init=0.6 V， high =0.6 V, Low =0.1 V

请教各位：

1. 扫描速度一般设成多少呢？我看文献用100V/s扫, 但曲线噪音特别大。
2. 要算欠电位沉积峰的积分电量，这里沉积峰是指还原峰的积分电量吗？积分区间就是0.1~0.6？
3. 我扫了4 segment，要取两圈积分电量的平均值，还是某个segment呢？


谢谢您回答~~
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1楼 2010-11-17 23:02:41
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chemyl8868

金虫 (正式写手)
引用回帖:
8楼: Originally posted by 小毛球 at 2014-06-16 09:04:25
欠电位沉积和电沉积不是一个概念。。。所以扫了4个segment可能不仅仅是欠电位沉积了，可能也有电化学沉积在里面。定点量适用CuUPD的氧化溶出电量吧，不是还原的

谢谢回复，受益啦
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9楼2014-06-20 09:08:54
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chemyl8868

金虫 (正式写手)
没人回复呢，自己顶一下吧。
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2楼2010-11-18 21:01:20
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zengjiaha

金虫 (小有名气)
chemyl8868(金币+2):谢谢你，请问扫速慢了会不会使欠电位沉积的铜就不是单层了呢？ 2010-11-18 22:25:33
1.噪音大可以吧扫速增加到200mv
2.积分电量的从电流增大，也就是反应开始时算起到电流回到基线
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3楼2010-11-18 22:13:46
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zengjiaha

金虫 (小有名气)
chemyl8868(金币+1):好，谢谢你 2010-11-20 10:34:36
这个我不清楚，你可查阅这方面的文献，看看别人的实验条件。扫速增大，峰值电流会增大，反应的可逆性也会下降，过电势也会增大
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4楼2010-11-19 22:38:18
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