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【求助】文章8月26号前必须修回，有几个问题请教大家。 已有24人参与
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文章内容：用动电位极化和EIS电化学阻抗评价钛合金微弧氧化膜的性能。 审稿人的第一个问题： Bc values appear to be too high for genuine Tafel behaviour. The fitting method used in Tafel analysis must be discussed in details. There appear to be no Tafel distinct region in anodic direction; hence a limiting current must be used to evaluate icorr. 请问：“limiting current” 的意义是什么，该怎样计算？当时用Cview进行的计算，自动tafel分析不能进行，跳出的提示是：“5mV of data required on each sides of Ecorr”。于是，我分别对anodic 和cathodic进行了独立的分析。得出Ac和Bc，呵呵，结果就是审稿人说Bc有问题……  初稿中的结果：   审稿人的第二个问题： For, EIS fitting, complex plot must be provided. 请问：这个complex plot 是complex plane plot（复平面图）吗？还是其他的东西。我用的zsimpwin拟合。初稿上放的是Bode图，参考文献上一般放的都只有Bode图啊。 [ Last edited by westlover on 2010-8-2 at 10:04 ] |
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您批评的很对，对这个方向我没有太用功，以为凭简单的知识就可以过关，这个电化学实验仅仅是课题的一小部分，我们实验室以前没涉及过。课本上以及文献中都能顺利地用tafel拟合获取腐蚀参数，因此我也未加注意。尤其是这个用“limiting current”评价的确没有在文献中遇到过，因此一头雾水。另外，他提及的那个"complex plot" 在数据库里的确查不到，是不是“complex plane plot” 啊？此外，我实在是不理解tafel区的定义，我觉得，我的极化图从电流最小值开始的很大一个范围都是直线，而且是应该是在Ecorr几十mv范围内。 [ Last edited by westlover on 2010-7-30 at 08:53 ] |
21楼2010-07-30 08:47:40
liuxuxiuping
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2楼2010-07-29 15:15:26
ck2005lt
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3楼2010-07-29 15:17:18
4楼2010-07-29 15:17:19
