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prince1000

银虫 (小有名气)

[交流] 【求助】求助ms中analysis的smearing参数的问题已有1人参与

Castep里面,计算完特性,用analysis分析dos的时候,有两个积分方法,一个是smearing另一个是Interpolation,这两种方法都有一个选项,一个是smearing width,另一个是instrument broadening,我发现这两个值的设定会最后dos的形状影响很大,这是什么原因,这个参数一般怎么设置?因为我认为这两个参数设置稍微变化的话会导致一个截然不同的dos,以至于材料电子结构的完全不同。
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zzy870720z

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小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
qasd(金币+1):谢谢 2010-06-15 15:24:15
自己也不是太熟
感觉这东西有点经验的性质
靠自己积累经验
一般画图都是修改一下参数画图试试
smearing一般在0.1eV就差不多了吧
没怎么改过Interpolation
但是lz说的截然不同说明参数取得太离谱了
博学、审问、慎思、明辨、笃学
2楼2010-06-15 12:47:03
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