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allshine

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[交流] 【求助】多孔氧化铝电沉积Ag 已有4人参与

本人现在以多孔阳极氧化铝为模板，在氧化铝孔道内沉积金属Ag。当孔径》60nm的时候可以金属可以沉积入孔道，但是生长不均匀，氧化铝表面很容易优先沉积Ag，堵塞孔道。当孔径30nm时，金属都是在表面沉积，不能进入孔道。沉积溶液为AgNO3和硼酸。正在学习电化学方面的知识，望各位不吝赐教！

另外，问题二，以AgNO3和硼酸为电解液，三电极系统，工作电极为pt电极时，Pt电极板上沉积很均匀，沉积层很致密；但是以Al作为电极时，Al板上为什么不能形成均匀的Ag膜，而是随即的区域絮状沉积，水可以冲掉。

问题上，当以Pt为工作电极，甘汞做参比电极，，以AgNO3和硼酸为电解液时；在-1和1V内做循环伏安法，为什么曲线上没有氧化还原峰，而且一下循环内的沉积曲线有交叉。交叉点是是什么意思。

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1楼 2010-05-18 18:34:23

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yanzk2005

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引用回帖:

Originally posted by allshine at 2010-05-18 18:34:23:
本人现在以多孔阳极氧化铝为模板，在氧化铝孔道内沉积金属Ag。当孔径》60nm的时候可以金属可以沉积入孔道，但是生长不均匀，氧化铝表面很容易优先沉积Ag，堵塞孔道。当孔径30nm时，金属都是在表面沉积，不能进入孔 ...

模板在电沉积钱需要活化吧！