| 查看: 480 | 回复: 2 | |||
[交流]
【求助】Rietveld精修的问题 已有2人参与
|
|
请教高手 我在做palway精修时的Rw=9.57%,然后用Rietveld精修时的Rw=54.86%,我想问一下为什么差别这么大的。如果调整U.V.W,P,#1,#2等参数,是调那些,往大调整还是往小调整。谢谢 |
» 猜你喜欢
求各位大神看下
已经有23人回复
面上再次挂了,太难了,躺也躺不了,倦也卷不过,小学校之殇!
已经有30人回复
2027年申博
已经有4人回复
好消息?这个有何含义???
已经有10人回复
咨询面上基金
已经有4人回复
8月时间戳变的,举个手。玩一下,释放压力
已经有10人回复
【2027博士申请】纳米药物递送方向
已经有4人回复
UV压敏胶开发
已经有7人回复
有没有H口的?有收到消息的吗?
已经有3人回复
十年后又回来了,论文投稿求助
已经有3人回复
fah
铁杆木虫 (著名写手)
- 应助: 28 (小学生)
- 金币: 6301.8
- 红花: 1
- 帖子: 1380
- 在线: 238.6小时
- 虫号: 332256
- 注册: 2007-03-26
- 性别: GG
- 专业: 无机非金属类高温超导与磁
2楼2010-05-20 15:37:33
3楼2010-05-20 17:58:26










回复此楼