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【请教】关于去除二氧化硅核后的处理问题 已有3人参与
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| 我做的是C包覆二氧化硅，然后用2.5%的HF酸将二氧化硅去除后，放入培养皿中60度条件下干燥，但干燥完后产品都粘到培养皿上，极难刮下，问下这是什么原因造成的？谢谢！！！ |
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