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【求助】求助:关于NH3-TPD方面(急!)
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潇潇589
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【求助】求助:关于NH3-TPD方面(急!)
请问在NH3-TPD中,ZSM-5分子筛除了前面出现的两个峰外,在600度还出现了一个峰,这个峰是因为什么原因出现的?是什么峰?请高手、大侠们帮帮忙!谢谢!
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你zsm-5的焙烧温度是多少呀
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2010-03-18 18:59:38
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楼上说的有道理
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^_^@^_^(金币+1):多谢分析 2010-03-28 21:15
没有预处理吧,孔内结合水的峰?
引用回帖:
Originally posted by
潇潇589
at 2010-03-18 17:09:36:
请问在NH3-TPD中,ZSM-5分子筛除了前面出现的两个峰外,在600度还出现了一个峰,这个峰是因为什么原因出现的?是什么峰?请高手、大侠们帮帮忙!谢谢!
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2010-03-18 22:27:21
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专业: 有机分子功能材料化学
帮顶一下,我也学习中
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2010-03-19 08:53:52
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做TPD时先在700度活化,再吸氨,脱附到800度
焙烧是在500度的
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2010-03-19 10:10:13
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^_^@^_^(金币+1):多谢分析 2010-03-28 21:15
你的材料在600烧过没,会不会是自身在600时发生分解,或者氨气在该温度与材料表面物质发生反应。
排出上述原因,可能为一个超强酸位,不过最好用质谱看看!
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2010-03-19 10:14:09
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你好!请问一下你的氨气TPD在哪测的?
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2010-03-19 16:35:05
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潇潇589
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可能是硅表面羟基缩合脱水,而产生的虚假峰。
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2010-03-20 09:32:08
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