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【求助】Al浆烧结后的Si片，实验过程的奇怪现象，大家帮忙解释
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我配了两种溶液，溶液一是350ml水中溶解1.8g NaOH和6g Na2SiO3（硅酸钠），溶液二是350ml水中溶解1.8g NaOH和6.5g Na2SiO3。然后将涂有Al浆烧结后的Si片放入两个溶液中。 在此期间，Si会和NaOH一直反应。但溶液一中的Al在反应一段时间（一分钟左右）后基本停止，而溶液二中的Al却长时间反应。这是为什么呢？也就是说硅酸钠的浓度会其关键作用。按我想象，NaOH越少，Na2SiO3越多，可能越会抑制Al的反应。此外，由于Al是烧结过的，可能有Al2O3的存在。 我知道的是，Si会和NaOH反应生成Na2SiO3，Al也会和NaOH反应生成（NaAlO2）偏铝酸钠。 全过程是 溶液一 Al前面几秒没反应 三五秒后剧烈反应 一两分钟后 基本又不反应 而溶液二是 一两分钟后还在反应 我做这个实验的目的是尽量不与烧结后的Al反应。 大家有什么好的想法，可以在此交流！谢谢！ [ Last edited by rose1799 on 2010-2-3 at 17:17 ] |
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minglight9
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stardom427
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rose1799(金币+3):谢谢热心的虫友啦！ 2010-03-01 14:54
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楼主大概的思路，俺明白，，也估计猜的出你可能在做什么实验。。 1：为什么要用氢氧化钠，而不用氨水？怕均匀性不好？ 2：正表面没有氮化硅吧？但是为什么要铝浆烧结后做这个实验呢？再说用氢氧化钠处理后必须酸洗的啊。。。酸肯定与铝反应。。。 3 铝浆烧结后，硅片会弯曲啊，对于你的后续处理应该有影响吧。。。 4 至于你碰到的问题：我估计是两个原因，一是碰巧两个硅片不一样，如果你再做一次，估计结果又不一样了，二：可能原因是弱碱条件下（这个比例），硅酸钠的碱性比氢氧化钠碱性还要强，一般纯粹的一定浓度的硅酸钠溶液也可以作为原始硅片表面预处理减薄的，，，有时候效果比氢氧化钠效果更好。 [ Last edited by stardom427 on 2010-2-9 at 16:38 ] |
2楼2010-02-09 16:36:50
