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木虫 (正式写手)

抱歉，我把两个概念给混淆了：光刻和紫外曝光。我们做微流体芯片都是采用软光刻的方法（打印掩模-UV曝光（采用SU-8光刻胶）-在master上倒上PDMS）。不知掩膜版生产商做出的掩模也可用于UV曝光？不好意思，我不太懂光刻的过程。

11楼2010-03-11 13:26:36

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金虫 (小有名气)

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就是用x射线曝光也是光刻啊
掩膜也有很多种，普通的玻璃掩膜就是用来做紫外曝光的

微纳加工

12楼2010-03-11 13:32:53

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13楼2010-03-12 20:38:06

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