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penfee

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[交流] 【求助】微孔硅胶的稳定性

向各位了解微孔硅胶稳定性的朋友请教:

在高压反应釜里,纯水条件下,二氧化硅载体在高温(200度)高H2压(5MPa)下,会出现硅胶溶解的情况吗?可能被氢气还原?还是。。。

多谢了。

[ Last edited by penfee on 2010-1-20 at 16:25 ]
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krlp

银虫 (著名写手)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
先抢个沙发,再问是什么溶液?
2楼2010-01-20 12:54:49
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penfee

荣誉版主 (文学泰斗)

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多谢二楼,是纯水,液固气三相反应。
3楼2010-01-20 16:26:41
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龙池秋月

金虫 (小有名气)

★ ★
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hr5898(金币+1,VIP+0):谢谢参与,欢迎常来! 1-21 19:06
要是氢气能够还原就好了,那样的话可以制备晶体硅,所不定还可以得到多晶硅呢
秋入龙池月皎皎, 春回牛山雨蒙蒙。
4楼2010-01-20 23:35:26
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justinzhao

荣誉版主 (职业作家)

光电池和光电化学分版-电化 ...

优秀版主

★ ★
小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
催化大师(金币+1):谢谢指点,欢迎常来催化版讨论! 2010-03-08 23:12
我觉得肯定不是被还原了,但是形成硅酸倒是有可能啊,SiO2+H2O=H2SiO3,
SiO2+2H2O=H4SiO4,或者多硅酸,从而分散与液相,固体中的表现就是减少了。
呵呵
楼主感兴趣可以做个热力学计算哈~~~
i-love-photovoltaic-cell
5楼2010-03-08 22:17:03
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gadflyxj

木虫 (正式写手)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
SiO2一般是不能被氢气还原的
6楼2010-03-08 22:59:51
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