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Joindenver

银虫 (小有名气)

[交流] 【求助】PECVD法沉积的DLC膜总“花”

最近用乙炔和氢气混合气体采用等离子体气相沉积法在Si片上沉积类金刚石薄膜,但做出的薄膜总是花的,同一块基片上做出的薄膜颜色都不一样,感觉特别不均匀,请问各位是怎么回事儿啊?
谢谢各位了,请大家指点下,帮忙想想办法。
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qhdlibo

木虫 (小有名气)

★ ★
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bio-polymer(金币+1,VIP+0):谢谢回帖交流 1-14 10:42
把你设备的等离子体分布特征先搞清楚,找分布(或者转动靶到)均匀的区域,才有可能做出均匀的薄膜来。
海边的天,很蓝...
2楼2010-01-14 06:04:25
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nrzhang

金虫 (小有名气)

★ ★
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bio-polymer(金币+1,VIP+0):谢谢回帖交流 1-14 10:42
薄膜厚度不均匀。
引用回帖:
Originally posted by Joindenver at 2010-1-13 23:21:
最近用乙炔和氢气混合气体采用等离子体气相沉积法在Si片上沉积类金刚石薄膜,但做出的薄膜总是花的,同一块基片上做出的薄膜颜色都不一样,感觉特别不均匀,请问各位是怎么回事儿啊?
谢谢各位了,请大家指点下, ...

3楼2010-01-14 08:34:02
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zhuzhen

木虫 (正式写手)

★ ★
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bio-polymer(金币+1,VIP+0):谢谢回帖交流 1-14 10:42
膜厚不匀产生的干涉,导致花花绿绿的。慢慢摸索吧,改变参数、改进设备啦
4楼2010-01-14 10:30:13
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Joindenver

银虫 (小有名气)

应该说是膜厚不均匀引起的,但化学气相沉积法一般应该是均匀的啊。影响等离子体分布一般是哪些因素呢?单纯从放电现象上看不出的。开始阶段做的不花,后来在中频电源输出端串接了一个直流电流表(测试工作电流),清洗真空室后,再次做出的薄膜就花了
5楼2010-01-14 22:53:57
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