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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 高分子 » 高分子化学 » 【求助】自由基聚合用引发剂
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chenshiyao

金虫 (小有名气)

[交流] 【求助】自由基聚合用引发剂

(NH4)2S208，(NH4)2S208-NaHSO3这两种引发剂有什么不同？氧化还原体系比(NH4)2S208单独使用有什么优点？
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1楼 2010-01-08 09:55:02
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chenshiyao

金虫 (小有名气)
引用回帖:
Originally posted by qprong at 2010-1-8 14:37:
APS和KPS引发温度一般在乳液聚合时引发温度>70℃，氧化还原在50℃，可以一开始使用APS类引发剂，在反应后期降温至50摄氏度补加氧化还原体系用来消除体系内残余的单体

这两个体系的引发剂都试过，产率都不是很高。我用的是水溶液聚合，反应产液用无水乙醇沉淀。产率不高的原因会不会是因为引发剂不好？
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6楼2010-01-08 15:16:06
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renyang82

金虫 (正式写手)

PhD
★ ★
chenshiyao(金币+2,VIP+0):谢谢交流！ 1-8 15:09
氧化还原体系与过氧化化体系的主要差别之一为聚合温度不同，过硫酸盐一般在50度以上，而氧化还原体系可在室温或更低的温度下进行——《自由基聚合》，潘祖仁，P60
赞一下(2人) 回复此楼
无故加之而不怒，猝然临之而不惧。
2楼2010-01-08 11:55:14
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yxqiang119

铁杆木虫 (职业作家)

medal of honor
★
chenshiyao(金币+1,VIP+0):谢谢支持！ 1-8 15:12
帮楼主顶  不是很懂 感觉楼上的说的也很正确吧
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what hurts more,the painof hard work orthe pain of regrets?
3楼2010-01-08 14:31:14
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qprong

金虫 (小有名气)
★ ★
chenshiyao(金币+2,VIP+0):谢谢交流！ 1-8 15:12
APS和KPS引发温度一般在乳液聚合时引发温度>70℃，氧化还原在50℃，可以一开始使用APS类引发剂，在反应后期降温至50摄氏度补加氧化还原体系用来消除体系内残余的单体
赞一下(2人) 回复此楼
4楼2010-01-08 14:37:21
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