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xiao8686

木虫 (小有名气)

[交流] 【交流】DSC消除thermal history

高分子做dsc的时候第一次加热到Tg,然后再加热一次,消除thermal history。

如果是先把高分子溶在溶剂里面,然后cast film,再做dsc,这样还要加热两次么?是不是thermal history就已经应该消除了?

但是,我发现我做cast的两次加热得到的dsc曲线还是不一样,见图(poly acrylic acid), 谁能具体解释一下么?谢谢!
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xiao8686

木虫 (小有名气)

恩,我现在想想也是这样,我做之前没有干燥过,可能水峰过大,导致第一次的Tg看不到了。因为PAA有可能形成酸酐,所以我想能只加热一次就一次..

300度以后我也不太了解,我觉得应该是分解了,我看文献里面的,基本都只做到了
300度,没有往上了。
引用回帖:
Originally posted by candymonk at 2010-1-8 13:51:
成膜后里面有水,最好还是除一下水,问题是你这个图我也看不懂,貌似300度以后放很多热,是不是分解了

12楼2010-01-08 14:17:52
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star110

金虫 (正式写手)

会不会第一次的时候溶解未充
2楼2010-01-08 08:40:22
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xiao8686

木虫 (小有名气)

应该不是这个,我搅了1天。而且1wt%,很低,应该是溶解充分的。

我就是觉得如果把高分子溶解了,应该thermal history就没有了吧?
引用回帖:
Originally posted by star110 at 2010-1-8 08:40:
会不会第一次的时候溶解未充

3楼2010-01-08 08:57:35
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kovacs

至尊木虫 (职业作家)

~~——××


xiao8686(金币+1,VIP+0): 1-8 13:20
无论怎样都要消除热历史
无定形的要高于Tg
结晶的要高于熔点20度
要恒温5min左右
过好每一天是最重要的
4楼2010-01-08 09:21:53
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