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sunjh298

银虫 (小有名气)

[交流] 【请教】请教,怎样在ITO玻璃上制备一层10nm左右的薄层

请教,怎样在ITO玻璃上制备一层10nm左右的薄层
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sunjh298

银虫 (小有名气)

补充一下,是SiO2
2楼2009-12-17 14:56:33
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linlin1013

金虫 (正式写手)

★ ★ ★
mhwu514(金币+1,VIP+0):谢谢! 12-17 15:52
sunjh298(金币+2,VIP+0): 12-17 16:16
可以用溶胶凝胶法 提拉镀膜
我就是这样镀膜的,每层膜的厚度大概就10nm左右,不过我的原料不是SiO2
SiO2的话可以用正硅酸已酯做原料来配溶胶

磁控溅射,真空蒸镀都可以镀膜,有SiO2的靶材就可以
3楼2009-12-17 15:03:17
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herben2022

铜虫 (初入文坛)


sunjh298(金币+1,VIP+0): 12-18 10:34
用真空室真空蒸镀镀膜
4楼2009-12-17 16:27:30
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qfw_68

版主 (文坛精英)

有尾巴的青蛙


sunjh298(金币+1,VIP+0): 12-18 10:34
貌似CVD膜厚好控制一些。
没有困难创造困难也要上网。
5楼2009-12-17 16:30:02
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hzqllsun

木虫 (小有名气)


sunjh298(金币+1,VIP+0): 12-20 11:59
真空蒸镀应该不行,温度达不到吧?!
用磁控溅射和电子束蒸发都可以,我们都是这么做,如果要控制厚度,配合使用薄膜监控仪,搞定!!!
PermanentHeadDamage;ProudlyHalfDead;PigHasDream!
6楼2009-12-18 13:10:38
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bailusge

木虫 (著名写手)


sunjh298(金币+1,VIP+0): 12-20 11:58
我认为使用pld方法成膜更准确一点吧,只要计算脉冲个数就可以了。。
在别人贪婪时我们应该恐惧,在别人恐惧时我们应该贪婪
7楼2009-12-19 12:53:38
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