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【半导体薄膜代工】ALD/CVD/磁控溅射/热蒸发全工艺
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微纳代工服务说明如下： 服务范围 ◆ ALD服务（芬兰beneq机台：8inch/4台）：Al2O3、SiO2、ZnO 、HfO2、ZrO2、In2O3、TiO2、AlN、TiN、Ga2O3、Y2O3、Pt。每炉样品尺寸8inch以内。以上的混合物也都可以做，如HZO、IGZO等。 ◆ ALD服务（芬兰beneq机：12inch/1台）：Al2O3、TiO2，每炉可以12片4inch或者6片8inch。 ◆ CVD服务（日本爱发科大型机台）：SiO2、SiN ，样品尺寸8inch以内。 ◆ 热蒸发：Cu、Ni、Al、Ag、Au，样品尺寸4inch以内。 ◆ 磁控溅射（日本爱发科大型机台）：ITO、IGZO、Mo、Ti、Al 、Au、Pt，样品尺寸6inch以内。 设备优势 ● 采用半导体级双腔体设计，大幅缩短吹扫时间，降低类CVD反应，解决金属形变及析出问题带来的工艺问题 ● 可以针对不同形状的样品定制不同的内腔体实现不同的科研目标 ● 腔体GDU前驱体快速阻断设计提高生长质量 ● 热源采用金属热辐射设计，保证温度的一致性防止管路堵塞 ● 高度开放的recipe，例如泵抽调速或暂停/多喷头模式，适应不同的科研需要，最大权限开放给科研人员 ● 8 inch硅片氧化铝非均匀性0.5%以内 样品性质（必填） 为方便技术团队判断是否可以进行代工服务，提高沟通效率，请您务必复制下方信息，填写后发送至公司邮箱（邮箱见下方特别说明） 1.尺寸（inch/mm） 2.厚度（μm） 3.沉积材质（需镀膜的种类） 4.基底材质 5.样品形状（晶圆/方形片/异形片） 样品提示 ● 对于ALD工艺样品必须彻底清洗干净，需耐温，无毒，无易分解、无易扩散（如Cu），无粉末，禁止用mark笔标记样品！禁止有任何有机物！ ● 样品尽量采用洁净真空双层包装寄送！样品不能有无尘纸等接触表面，不能用双面胶带固定（无法取下），采用硅片盒和自吸附盒子! ● 因样品不耐温或者工艺不兼容导致的样品损坏，卖方不承担任何赔偿责任。样品通过顺丰寄送，建议声明样品总价值保价，保价费由买方承担。 特别说明 ● 提供增值税普通发票，款到开始执行工艺。 ● 如需服务，请发送样品相关信息至邮箱：jenny@atomicald.com ● 兼售ALD设备——双腔体喷淋盘式设备，多所高校和研究所已采用，领先业内水准!如需可联系上方邮箱。 技术交流 ● TEL：18817872921 丁 上海埃拓米半导体有限公司    |
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