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gadfly03

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[交流] 上海交大刘苏萌课题组招收集成电路专项硕士生（ALD前驱体方向，头部企业联培）

课题组面向先进化学气相沉积和原子层沉积工艺需求，开展化学气相沉积（CVD）、原子层沉积（ALD）前驱体研究和工艺研究。现基于校企合作需求，招收集成电路专项硕士生一名（机械与动力工程学院或集成电路学院，很抱歉本课题组暂无博士名额）。课题将立足于先进薄膜沉积工艺所需的基础关键原材料前驱体材料的反应性质研究，结合企业需求，探索其在先进薄膜沉积工艺中的应用。

因项目导向需求，希望入选同学有一定的化学基础。在化工、能动、微电子、材料学等领域有相关积累会是加分项。

刘苏萌助理教授现任职于上海交通大学机械与动力工程学院，博士毕业于伊利诺伊大学厄巴纳-香槟分校无机化学专业(全美前五)，师从薄膜沉积前驱体领域先驱Gregory Girolami教授。博士论文围绕新型前驱体研究获T. S. Piper最佳毕业论文奖。后于诺贝尔化学奖得主Richard Schrock教授课题组从事钼博士后研究工作。在过渡金属元素化学、高活性化合物合成、薄膜沉积工艺、晶体学、反应动力学研究和波谱解析等方向有丰富的经验，发表论文22篇，其中一作13篇，授权美国专利三项，有丰富的校企合作解决真问题的经验，曾在与陶氏化学校企合作项目中做出了发表在JACS上的成果，并在文章发表5年后被陶氏化学转化落地。

课题组已建立起化学-工艺-仿真一体化研究体系，并与相关设备厂商和电子化学品头部企业建立了合作关系。本课题组立足于从工业界切实需求出发，以化学创新为突破口，研发新化学品和新薄膜沉积工艺，助力解决卡脖子问题。

欢迎有兴趣的同学加入课题组，一起为祖国的集成电路事业做贡献！

详情请联系 sumengliu@sjtu.edu.cn。

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