热蒸发全工艺

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内容

微纳代工服务说明如下：
服务范围
◆ ALD服务（芬兰beneq机台：8inch/4台）：Al2O3、SiO2、ZnO 、HfO2、ZrO2、In2O3、TiO2、AlN、TiN、Ga2O3、Y2O3、Pt。每炉样品尺寸8inch以内。以上的混合物也都可以做，如HZO、IGZO等。
◆ ALD服务（芬兰beneq机：12inch/1台）：Al2O3、TiO2，每炉可以12片4inch或者6片8inch。
◆ CVD服务（日本爱发科大型机台）：SiO2、SiN ，样品尺寸8inch以内。
◆ 热蒸发：Cu、Ni、Al、Ag、Au，样品尺寸4inch以内。
◆ 磁控溅射（日本爱发科大型机台）：ITO、IGZO、Mo、Ti、Al 、Au、Pt，样品尺寸6inch以内。
设备优势
● 采用半导体级双腔体设计，大幅缩短吹扫时间，降低类CVD反应，解决金属形变及析出问题带来的工艺问题
● 可以针对不同形状的样品定制不同的内腔体实现不同的科研目标
● 腔体GDU前驱体快速阻断设计提高生长质量
● 热源采用金属热辐射设计，保证温度的一致性防止管路堵塞
● 高度开放的recipe，例如泵抽调速或暂停/多喷头模式，适应不同的科研需要，最大权限开放给科研人员
● 8 inch硅片氧化铝非均匀性0.5%以内
样品性质（必填）
为方便技术团队判断是否可以进行代工服务，提高沟通效率，请您务必复制下方信息，填写后发送至公司邮箱（邮箱见下方特别说明）
1.尺寸（inch/mm）
2.厚度（μm）
3.沉积材质（需镀膜的种类）
4.基底材质
5.样品形状（晶圆/方形片/异形片）
样品提示
● 对于ALD工艺样品必须彻底清洗干净，需耐温，无毒，无易分解、无易扩散（如Cu），无粉末，禁止用mark笔标记样品！禁止有任何有机物！
● 样品尽量采用洁净真空双层包装寄送！样品不能有无尘纸等接触表面，不能用双面胶带固定（无法取下），采用硅片盒和自吸附盒子!
● 因样品不耐温或者工艺不兼容导致的样品损坏，卖方不承担任何赔偿责任。样品通过顺丰寄送，建议声明样品总价值保价，保价费由买方承担。
特别说明
● 提供增值税普通发票，款到开始执行工艺。
● 如需服务，请发送样品相关信息至邮箱：jenny@atomicald.com
●兼售ALD设备——双腔体喷淋盘式设备，多所高校和研究所已采用，领先业内水准!如需可联系上方邮箱。
●如有疑问，欢迎致电：17685529658 胡
技术交流
● TEL：18817872921 丁

上海埃拓米半导体有限公司

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