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VPI SD-2200M （8寸大靶）磁控溅射镀膜仪，为 大样品 SEM 表征做好关键一步
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样品表征前处理，往往决定图像质量和测试效率。VPI SD-2200M 磁控溅射镀膜仪以稳定真空、可控气体、较大腔体和多靶材支持，帮助实验室完成金、银、铂、铜等导电膜层制备，适用于 SEM 样品导电处理、材料表面改性和薄膜实验等场景。 在扫描电镜观察、材料表面分析和科研样品制备中，镀膜不是一个“附加步骤”，而是影响成像稳定性、导电性和测试效率的关键前处理环节。对于导电性较弱、表面容易积累电荷的样品，均匀、稳定的导电膜层可以帮助减少充电效应，让观察结果更清晰，也让后续分析更可控。 VPI SD-2200M 磁控溅射镀膜仪，面向实验室日常样品处理与材料研发应用设计。设备采用透明耐刮石英玻璃腔体，便于观察腔内状态；支持 Au、Ag、Pt、Cu 等常用靶材，覆盖科研检测中常见的导电镀膜需求；配合气体流量控制与真空系统，为稳定成膜提供基础条件。 它适用于 SEM 样品导电镀膜、材料表面处理、薄膜实验、科研教学以及检测分析机构的样品前处理流程。腔体尺寸约 Phi 350 x 240mm，抽真空时间小于 5 分钟至 2Pa，最大溅射电流 1.6A，整机尺寸约 490 x 400 x 590mm，靶头尺寸：直径200mm，适合实验室台面或专用工作台部署。  |
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