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xpkl1342

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[交流] 2026年光学信息与成像建模国际会议（OIPM 2026）

会议城市:

杭州

2026年光学信息与成像建模国际会议（OIPM 2026）
2026 International Conference on Optical Information and Imaging Modeling (OIPM 2026)

基本信息
简称：OIPM 2026
地点：中国·杭州
会议官网：www.metting-cloud.com/oipm
投稿邮箱：oipm@metting-cloud.com
收录检索：提交至EI Compendex, CPCI, CNKI, Google Scholar等
审稿通知：投稿后3-5日内通知
联系人：张老师电话/微信：199 8054 5614

【会议简介】
2026年光学信息与成像建模国际会议（OIPM 2026）致力于推动光学科学、信息处理技术与智能成像方法的融合发展。会议将邀请来自光学工程、计算成像、人工智能视觉、遥感探测以及图像处理等领域的专家学者，共同探讨先进成像技术与信息建模理论的最新成果。

近年来，计算光学、智能传感和人工智能算法的发展不断推动成像技术革新。从医学影像、工业检测到遥感观测和智能驾驶，光学信息处理技术正在发挥越来越重要的作用。高精度成像模型与智能分析方法已成为推动相关产业升级的重要动力。
OIPM 2026将围绕光学成像系统、计算成像技术、图像重建、视觉感知、光电探测及智能信息处理等方向开展交流，促进学术界与产业界合作创新。

【征稿主题】
光学信息、光学成像、图像处理、计算成像、机器视觉、光电子技术、三维成像、光谱分析、智能感知、光学检测、数字成像、视觉计算、图像识别、模式识别、遥感成像、光场技术、光学建模、信息处理（研究领域包括但不限于以上主题）

【投稿说明】
投稿要求：论文须采用英文撰写，使用Word格式，并严格按照会议模板排版。投稿论文应为未公开发表的原创研究成果，符合学术规范。
提交方式：请将稿件发送至会议指定邮箱，邮件主题命名为“作者姓名+联系方式+投稿”。
篇幅要求：论文建议篇幅为4–15（含图表及参考文献），超出部分会收取超页费用。
审稿周期：一般于投稿后3–5个工作日内反馈审稿结果。

【出版与检索】
录用论文经同行评审后，将收录至会议论文集并正式出版。论文集出版后将统一提交至EI Compendex、Scopus、Inspec等数据库检索。

【参与方式】
投稿参会：提交全英文论文，经评审录用后收录至会议论文集，并可申请进行口头报告。
旁听参会：不提交论文，仅参加会议交流与学习，不作报告。
汇报参会：仅作学术报告者可提交摘要申请参会。摘要应包含题目、正文、关键词及作者信息，原则上不超过2页。经审核通过后，可进行10–15分钟的口头报告。
旁听参会：不提交论文或摘要，仅参加会议交流与学术活动。

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