[交流] 2026年电子化学品、光刻胶与湿电子化学品国际学术会议 (ECPWE 2026)

会议城市: 成都 是否Ei/ISTP收录: Ei收录 2026年电子化学品、光刻胶与湿电子化学品国际学术会议 (ECPWE 2026) 会议官网：www.confsflow.com/ecpwe |  地点：中国·成都 大会亮点 主题明确： ECPWE 2026将以“电子级化学品的纯度控制、光刻胶的分辨率提升及湿电子化学品的工艺优化”为主题，聚焦ArF、EUV光刻胶的树脂设计、高纯电子气体等关键技术。旨在突破半导体材料领域的“卡脖子”技术，支撑中国集成电路产业的自主可控发展。 文化氛围独特： 成都作为中国西部电子信息产业的核心城市，在集成电路、显示面板等领域形成了完整的产业链，为电子化学品研究提供了良好的产业生态。参与者不仅能领略到成都的独特魅力，还能感受到这座城市在科技创新领域的深厚底蕴。 高端交流平台： 参会者将有机会聆听来自世界各地的专家带来的精彩演讲，并参与到专题研讨和互动环节中，分享最新的研究成果和实践经验。此次大会不仅是一个展示最新研究成果的机会，也是推动学术界与工业界深度融合的重要契机。 会议简介 2026年电子化学品、光刻胶与湿电子化学品国际学术会议（ECPWE 2026）将在成都召开。此次盛会将汇聚全球顶尖的电子化学品、光刻胶与湿电子化学品领域的专家学者、科研人员及行业精英，共同探讨该领域的最新进展及其对未来社会发展的影响。大会以“电子级化学品的纯度控制、光刻胶的分辨率提升及湿电子化学品的工艺优化”为主题，精准契合当下对技术创新和社会发展的需求。 征稿主题 电子化学品： 高纯电子气体 电子级溶剂 电子级酸 电子级碱 电子级特种气体 纯度控制技术 光刻胶： g线/i线光刻胶 KrF光刻胶 ArF光刻胶 EUV光刻胶 树脂设计 光致产酸剂 线边缘粗糙度控制 分辨率提升 湿电子化学品： CMP抛光液 清洗液 蚀刻液 剥离液 显影液 再生技术 国产化替代 其他与电子化学品、光刻胶及湿电子化学品相关的主题均可投稿。 参与方式 旁听参会：仅参与聆听。 汇报参会：提交摘要，进行10-15分钟口头报告演讲。 全文投稿：文章需全英文投稿，请将英文稿件(Word)发送至组委会邮箱（ecpwe@confsflow.com），邮件标题格式：“作者姓名+联系方式+投稿。”文章将登刊在论文集，出刊后统一提交检索。

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