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磁控溅射
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磁控溅射代加工 详情请联系曹工程师 1设备配置的有射频电源和直流电源，可以溅射金属类、非金属、半导体、绝缘类材料。 已有靶材：Cr、Ni、Al2O3、Al、SiO2、单晶硅、类金刚石（DLC） 2工位数与样品数量：Φ4英寸（10.16cm）样品1片或小样品数片。溅射不均匀性：≤±5％（Φ4英寸范围内）。工艺气体：Ar、N2。电源功率：射频：600W，自动匹配，直流：1000W 3具体价格根据靶材而定 4质量均匀涂层 发自小木虫手机客户端 |
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