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cqw007

铁杆木虫 (著名写手)

[交流] 分析位错线 已有1人参与

如何分析TEM明场相或者暗场相中观察到的位错线?可否提供相关文献?谢谢!
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lion_how

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我以我的合金方程推导了一下,有以下结论。纯理论推导,仅供参考

如下:


TEM明场像与暗场像中位错线的分析方法

第一步:确认成像条件
查看图像标注,确认:

衍射条件:是否双束条件(通常必须)?

操作矢量g:g的指数和方向(如g=(200))。

成像模式:明场像(位错为暗线)或暗场像(位错为亮线)。

第二步:观察位错形态

直线/弯曲:直线位错多为螺位错或沿特定晶向的刃位错;弯曲位错可能受局部应力影响。

是否成环:位错环可能是辐照或淬火产生的空位/间隙型缺陷。

是否缠结:位错网络表明材料已发生塑性变形。

第三步:确定Burgers矢量(g·b判据)
原理:当g·b=0时,位错不可见(或衬度极弱)。

需要一组不同g下同一区域的图像(至少3张)。

记录每条位错在哪些g下消失。

根据晶体结构列出可能的b(如fcc中b = a/2⟨110⟩)。

找出满足所有不可见条件的b。

对于刃位错,还需考虑g·(b×u)=0(u为位错线方向)。

第四步:判断位错类型
结合b和位错线方向u:

u∥b → 螺位错

u⊥b → 刃位错

其他 → 混合位错
u可通过trace分析获得(在不同倾转照片中测量投影方向变化)。

第五步:统计位错密度

在弱束暗场像上测量位错线总长度L。

视场体积 = 面积A × 厚度t(厚度通过等厚消光条纹或EELS获得)。

位错密度 ρ = L / (A·t)。

第六步:特殊情况处理

位错环类型:用“内外衬度法”——改变g符号,若环衬度内外翻转,则为间隙型;反之为空位型。

层错:观察平行条纹,用g·R判据(R为层错位移矢量)分析。

免责声明
本回复由作者合金公式及AI依托公开信息推导,仅供参考。具体分析请以经典教材和实际实验为准。使用者因采用上述内容产生的任何损失,作者不承担任何责任。
本人非材料专业,此来验证本人合金晶格方程及硅芯片全局解决方案。
2楼2026-03-20 10:06:38
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lion_how

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推荐文献
1、Hirsch P B, et al. \textit{Electron Microscopy of Thin Crystals}. Krieger, 1977.
2、Williams D B, Carter C B. \textit{Transmission Electron Microscopy}. Springer, 2009.
3、Edington J W. \textit{Practical Electron Microscopy in Materials Science}. Macmillan, 1975.
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3楼2026-03-20 10:09:22
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cqw007

铁杆木虫 (著名写手)

我主要关注能否从位错线的形貌来判断滑移类型。
4楼2026-03-25 08:25:43
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lion_how

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引用回帖:
4楼: Originally posted by cqw007 at 2026-03-25 08:25:43
我主要关注能否从位错线的形貌来判断滑移类型。

1. 形貌能提供初步线索,但不能唯一确定

从TEM明场/暗场像中位错线的几何形态,可以推测滑移类型的一些特征:

直线位错:通常沿特定晶向(如<110>)延伸,多为螺型位错(伯格斯矢量平行于位错线)或刃型位错(伯格斯矢量垂直于位错线且沿特定滑移面)。若在多个g下均呈直线,说明位错线方向受晶体学约束,可能对应低指数滑移方向。

弯曲或波纹状位错:常因局部应力场、第二相颗粒或交滑移引起。若位错线呈波浪形,可能表明发生了交滑移(螺位错从一个滑移面转到另一个共面滑移面),常见于体心立方(bcc)金属或高层错能材料。

位错环:圆形或椭圆形位错环通常由空位或间隙原子聚集形成,其滑移面由环面法向与伯格斯矢量决定。通过“内外衬度法”可判断是空位型还是间隙型。

位错网络或胞状结构:高密度位错缠结形成网络,表明材料经历了塑性变形,但具体滑移系需结合g·b分析。

关键点:形貌只能作为参考,确定滑移类型必须依靠衍射衬度分析(g·b判据)结合晶体取向(电子衍射花样)才能得到伯格斯矢量b和滑移面。

2. 推荐文献

经典教材
Hirsch P.B. et al., Electron Microscopy of Thin Crystals, Krieger, 1977.(第7章“位错衬度”)
Williams D.B., Carter C.B., Transmission Electron Microscopy, Springer, 2009.(第25章“位错与层错”)

实用分析方法
Edington J.W., Practical Electron Microscopy in Materials Science, Macmillan, 1975.(含大量实例)
满瑞林等,“利用透射电镜衬度像变化判定位错环类型及注氢纯铁中形成的位错环分析”,物理学报,2011.

近年应用
“STEM Characterization of Dislocation Loops in Irradiated FCC Alloys”, NOME Lab / ORNL / Elsevier(2018–2024系列)——展示了现代扫描透射电镜技术如何结合形貌与衬度分析确定滑移系。

3. 结合多尺度模型的辅助判断

若希望进一步提升形貌分析的定量性,可采用位错多尺度模型(如作者提出的递归理论),将位错线形貌视为不同尺度层级缺陷激活因子的空间分布。例如,直线段对应某一优势层级的完全激活,弯曲处可能涉及层级间耦合。但此类方法仍需以g·b实验为基础,可作为一种理论补充。
本人非材料专业,此来验证本人合金晶格方程及硅芯片全局解决方案。
5楼2026-03-25 09:06:28
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cqw007

铁杆木虫 (著名写手)

引用回帖:
5楼: Originally posted by lion_how at 2026-03-25 09:06:28
1. 形貌能提供初步线索,但不能唯一确定

从TEM明场/暗场像中位错线的几何形态,可以推测滑移类型的一些特征:

直线位错:通常沿特定晶向(如&lt;110&gt;)延伸,多为螺型位错(伯格斯矢量平行于位错 ...

如此详细,感谢感谢
6楼2026-03-25 19:37:32
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