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有个问题想和大家探讨一下：分子印迹聚合物对模板分子的吸附量有没有可能比合成聚合物时加入的模板量要高？ 我个人觉得不大可能，因为印迹的原理就是依靠脱除模板后留下的高识别能力的空穴再次对模板进行吸附的，所以再次的吸附量应该不会超过合成时模板的量。但是最近看了几篇文章，吸附量大于甚至远大于合成时模板的量，我觉得很怀疑。 欢迎大家讨论！ 附上文献，方便大家讨论。 http://d.namipan.com/d/%e6%96%87 ... cac6ef3a774bcd40300 |
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 分子印迹 |
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