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新虫 (初入文坛)

应助: 0 (幼儿园)
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在线: 3小时
虫号: 36756209
注册: 2026-01-23
专业: 半导体材料

[交流] Fe3O4@SiO2合成已有6人参与

合了好几次Fe3O4@SiO2，照电镜结果都是包覆不上二氧化硅，有没有大佬讲讲实验有什么细节？
反应步骤：将Fe3O4 0.2g分散在乙醇(40mL)和去离子水(8mL)的混合液中，超声10min溶解，加入1mL的NH3，滴加正硅酸乙酯(TEOS)0.6mL，该溶液在室温下机械搅拌6h。然后用外磁体分离产物Fe3O4@SiO2，用去离子水和乙醇洗涤3次，在80℃下干燥10h。

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1楼 2026-01-24 09:06:00

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弘毅2025

新虫 (小有名气)

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红花: 6
帖子: 299
在线: 40.9小时
虫号: 7423562
注册: 2017-11-04
专业: 催化化学

★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖

推荐你阅读大连化学所501组刘爽老师的文章，有比较成熟的将Pd纳米粒子外包覆SiO2层的方法，可以直接借鉴。你的方法中貌似合成的四氧化三铁是水性的，但正硅酸乙酯需要第一步先吸附到四氧化三铁粒子上，第二步在碱和水的作用下水解才能完成包覆。可能需要加入其他的表面活性剂来链接四氧化三铁和正硅酸乙酯分子。推荐你阅读的这个文章中有已经试验出的表面活性剂。比较容易操作，完成一次包覆只需几小时。

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