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LINUZI_N新虫 (初入文坛)
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[求助]
负性耐碱光刻胶研发
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目前正在做一款能耐NaOH蚀刻的负性光刻胶，用于玻璃盖板的黄光工艺。光刻胶材料本身耐碱，但是与玻璃的结合力不足，碱蚀刻过程中光刻胶100%起层脱落。我们需要让光刻胶解析度达到10um以下，且耐高温碱蚀刻10分钟以上。有没有行业大佬能指点一二，或者加入我们的团队开发此光刻胶，校企合作也是OK的，酬劳丰厚。 发自小木虫手机客户端 |
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