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我在用射频磁控溅射在c面蓝宝石上沉积氧化镓薄膜时，调了好多参数都长不出有性能的薄膜。温度，压强，功率那些几乎都改过了，本地真空为7×10＾-4这个改不了，是什么原因呢 发自小木虫手机客户端 |
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