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硅蚀刻
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硅酸性蚀刻过程中,如何控制亮度不随蚀刻时间的增长而增加明显,即抑制亮度变化,除此之外,如何消除因快速气泡导致表面产生气泡冲刷痕迹,有无较好的消泡剂能在氢氟酸和硫酸溶液中稳定存在?谢谢! 发自小木虫手机客户端 |
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