| 查看: 2880 | 回复: 0 | |||
[交流]
硅蚀刻
|
|
硅酸性蚀刻过程中，如何控制亮度不随蚀刻时间的增长而增加明显，即抑制亮度变化，除此之外，如何消除因快速气泡导致表面产生气泡冲刷痕迹，有无较好的消泡剂能在氢氟酸和硫酸溶液中稳定存在？谢谢！ 发自小木虫手机客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
我应该选哪条合成路线让实验成功率高一些？
已经有8人回复
-
烦躁
已经有8人回复
-
入职后第一次管课题组的专利缴费，对账才发现官费比别人多掏了一倍
已经有3人回复
-
各位大佬，路线设计求助
已经有7人回复