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硅蚀刻
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硅酸性蚀刻过程中，如何控制亮度不随蚀刻时间的增长而增加明显，即抑制亮度变化，除此之外，如何消除因快速气泡导致表面产生气泡冲刷痕迹，有无较好的消泡剂能在氢氟酸和硫酸溶液中稳定存在？谢谢！ 发自小木虫手机客户端 |
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