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[交流]
上海大学理学院CMP课题组招收2026年集成电路专项博士生
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研究背景：先进节点集成电路光刻机物镜制造领域 研究方向：光刻机物镜磁流变抛光纳米材料及原子级表面平整技术。 报名要求：具有化学、材料、或摩擦学研究背景，英语6级，具有科研论文发表经历。 地址：上海大学宝山校区碳/碳复合材料大楼 A203室 联系方式：雷红教授 hong_lei2005@aliyun.com 雷红：主要从事新型纳米抛光材料、原子级表面抛光技术等方面研究。先后主持完成国家自科基金面上项目6项、国家自科基金重大研究计划1项。发表论文140余篇，其中SCI收录80余篇。授权国家发明专利20余项。研究成果“高性能纳米抛光材料及原子级表面平整技术”获得2009年上海市科技进步三等奖，“硬脆玻璃基板稀土复合磨料高精抛光技术研究”获2024年稀土科学技术奖二等奖。 备注： 报考学科属于：070300 化学，全日制学术博士 报名基本条件：外文期刊发表过学术论文，英语6级以上。其他见招生简章。 网上报名时间： 2025年 12月8日～2026年1月20日。https://yjszs.shu.edu.cn/ 具体报名流程见：招生简章https://yjszs.shu.edu.cn/info/1004/8324.htm https://gmis.shu.edu.cn/ZSJZ/BS/2026/ShowMajor.php-ID=484.htm |
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