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靶材的应用领域
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1. 半导体集成电路领域(技术要求最高) 这是靶材最核心、技术要求最高的应用领域。在芯片制造中,薄膜用于连接数以亿计的晶体管,构成复杂的电路。 导电层: 使用高纯铜(Cu)、铝(Al)、钛(Ti)、钽(Ta) 等靶材形成芯片内部的金属互连线。铜因其优异的导电性已成为主流。 阻挡层: 使用钽(Ta)、氮化钽(TaN)、钛(Ti)、氮化钛(TiN) 等靶材,防止铜原子扩散到硅基体中,从而保证芯片性能稳定。 接触层: 使用钴(Co)、镍(Ni) 等靶材,在晶体管源极、漏极和栅极形成良好的欧姆接触。 技术要求: 对靶材的纯度(通常要求99.999%-99.9999%)、微观结构、密度和均匀性有极其严苛的要求。 2. 平板显示领域(市场规模最大) 在液晶显示器(LCD)、有机发光二极管显示器(OLED)中,靶材用于制作各种功能性薄膜。 电极层: LCD: 使用铝(Al)、钼(Mo)、铜(Cu) 等金属靶材制作薄膜晶体管(TFT)的源极、漏极和栅极。 OLED: 使用ITO(氧化铟锡) 靶材制作透明阳极,是当前的主流技术。 透明导电层: ITO靶材 是应用最广泛的材料,用于制作触摸屏、液晶面板的透明电极。由于铟的稀缺性,也在开发氧化锌铝(AZO) 等替代材料。 阻挡层: 在OLED中,使用镁(Mg)、铝(Al) 等金属靶材在柔性基板上制备水氧阻挡层,以延长器件寿命。 3. 太阳能光伏领域 在薄膜太阳能电池中,靶材是形成光吸收层和电极层的关键材料。 CIGS(铜铟镓硒)薄膜电池: 直接使用铜(Cu)、铟(In)、镓(Ga)、硒(Se) 的单质或合金靶材,通过溅射形成光吸收层。 HJT(异质结)电池: 使用ITO(氧化铟锡) 或ICO(氧化铟钨) 等透明导电氧化物靶材作为透明导电层,性能优异。 薄膜电极: 使用铝(Al)、铜(Cu)、钼(Mo) 等作为背电极材料。 4. 信息存储领域(传统但仍在发展) 用于制造硬盘、光盘等存储介质的磁性薄膜和反射层。 磁记录介质: 使用钴(Co)、铬(Cr)、铂(Pt) 及其合金靶材,在硬盘盘片上形成高密度的磁性记录层。 反射层: 在DVD、蓝光光盘中,使用银(Ag)、铝(Al) 等靶材制作高反射率的反射层。 5. 其他应用领域 工具镀/耐磨涂层: 在切削工具、模具表面镀上氮化钛(TiN)、氮化铬(CrN)、碳化钛(TiC) 等硬质薄膜,大幅提高其硬度、耐磨性和使用寿命。 装饰镀: 在手表、首饰、洁具、手机外壳等产品上镀制氮化钛(TiN,金色)、碳化钛(TiC,黑色)、铬(Cr,亮银色) 等薄膜,提供美观、耐久的表面效果。 玻璃镀膜: 建筑玻璃: 使用铬(Cr)、钛(Ti) 等靶材镀制低辐射(Low-E)膜,实现隔热、保温、节能。 汽车玻璃: 镀制防雾、防霜、防眩光等功能薄膜。 光学元件: 在镜头、激光镜等光学元件上镀制增透膜、反射膜、滤光膜等,使用二氧化硅(SiO?)、二氧化钛(TiO?) 等氧化物靶材。 发自小木虫手机客户端 |
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