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haipinghu008

金虫 (正式写手)

[交流] 【求助】请教非晶硅和微晶硅中的几个基本问题

1.暗电导、光电导和光敏性的含义?它能反映什么(缺陷?)?在非晶硅和微晶硅中各层对这些量的要求?
2.在叠层电池中,上一层的N(P)和紧接的下一层P(N)为什么不构成PN?而是隧道效应导通,构成这种隧道效应需要满足什么条件?非晶和微晶硅对它们的要求?
谢谢各位!
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hanbing9925

铜虫 (小有名气)


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请问 Cord,你说微晶硅比非晶硅缺陷态密度大,你确定吗?在哪篇文献能找到呀?
9楼2009-11-06 19:33:34
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cord

铁杆木虫 (著名写手)


★ ★ ★ ★
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musi429(金币+3,VIP+0):多谢交流~ 11-4 01:25
1) 暗电导和光电导是材料的电学特性,好的材料都有一个范围;光敏性等于光电导除以暗电导,表示材料的光敏特性。
非晶硅的暗电导可以反应缺陷密度,如果暗电导率大于-10方,就说明它的缺陷密度很高。而微晶硅本身的缺陷密度要比非晶高很多,从光暗电导很难看出它的缺陷密度。
在不同光强下测量非晶的电流,通过计算,可以推知非晶硅中缺陷态的高低,参考arun Madan的非晶硅一书。
掺杂层需要他们的暗电导率达到一定量级,比如P型非晶硅的暗电导率在-6方,N型非晶硅的暗电导率在-2方以上;P型微晶硅暗电导率在-1方以上,N型微晶硅暗电导率在1以上;非晶硅本征层光电导率在-5方以上,暗电导率在-10方;微晶硅光电导率在-5方以上,暗电导率在-7到-8次方。
2)叠层电池中的NP结称之为隧穿结,顶电池的光生电子和底电池的光生空穴在此复合,可以称之为PN结;但是两个掺杂层由于掺杂的作用缺陷态高,自由载流子被陷在缺陷态中,形成的PN结形式不同于晶硅中的PN结,正式由于高的缺陷态,利于光生电子和空穴的复合,所以一般称之为隧穿结。非晶硅和微晶硅对它的要求是一致的,需要光生载流子在此迅速复合。
2楼2009-11-04 00:39:52
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andyzhao5858

木虫 (正式写手)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
楼上所述,电子和空穴在结出复合,将会导致电流密度的下降啊,有没有其他
方法?
3楼2009-11-04 17:08:40
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haipinghu008

金虫 (正式写手)

非常感谢cord  的指点!

我还想要问的是:在NP隧穿结中,这些电子和空穴是完全复合?还是部分复合?会有开压和短流的损耗吗?

有没有这方面的详细资料?
非常感谢各位的参与!

[ Last edited by haipinghu008 on 2009-11-4 at 18:52 ]
4楼2009-11-04 18:47:21
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